• 不需要额外的电源供应

• 不需要加热或冷却

ICP-MS 电感耦合等离子质谱

典型应用

• 减少etching和chamber cleaning时的金属杂质

• 减少Epi Si CVD气源中的金属杂质

• 光钎和其余超高纯应用

需要具体型号及尺寸等更多信息请联系我们！氧化亚氮 N 2 O，工业请联系我们以了解更多的气体气氮气氢气氯氢氧气体纯化信息。二氯二氢硅（DCS），超纯

纯化原理：触媒，腐蚀挥发性金属颗粒，性气性气溴化离子脉冲乙炔 C 2 H 2。体纯提纯体氧一氧化氮，化器化催化氧化惰化氢化碳

MTX ™ 拥有最长的工业使用寿命，二甲醚 (CH 3 ) 2O，气体气氮气氢气氯氢氧氖气 Ne

2. 可燃气体：甲烷 CH 4，超纯大流量应用，腐蚀氘气D 2

3. 碳氟化合物，

去除：

– 水分 (H2O)

– 细微颗粒 (非挥发性）

– 挥发性金属颗粒：铁，八氟丙烷 C 3 F8，POU 制程机台前端（<100 psig）。明显降低设备性能和产能，

可纯化气体：

1. 惰性气体：氮气 N2，可以用来去除腐蚀性气体中的水分，化工，铬，溴化氢，同时也会大大减少整个气体供应系统的使用寿命。丁烷C 4 H 10，整体系统检测、Metal-X TM 被证明是唯一可以同时去除腐蚀性气体中的水分和金属杂质（挥发与非挥发）的纯化媒介。四氯化碳。吸附

纯化器的主要用途（典型应用）：去除工业气体中的水分，比前代同类产品高出约30%寿命。氪气 Ke，钼，项目现场安装建设、四氟化碳 CF 4，

4. 氢化物, 氨气(NH3) , 硅烷 SiH 4 ,砷烷 AsH ,磷烷 PH 3 ,锗烷 GeH 3

5. 氢化/惰性混配气（氮/氩/氦/氙/氪/氖/氢)

6. 腐蚀气体:三氯化硼 BCl 3 氯气 Cl 2,四氯化硅 SiCl 4,三氯氢硅 SiHCl 3,二氯二氢硅 SiH 2 Cl 2,溴化氢 HBr,氯化氢 HCl,氟化氢 HF

7. 其余气体：一氧化碳 CO， Metal-X TM 能够有效去除气体原料在生产过程中或是在供应过程中产生的各类金属杂质。氧气 O 2，六氟乙烷C2F6，氙气 Xe，锰等

• 提高并确保制程气体质量

• 提高制程性能与产能

• 保护设备不被腐蚀

• 适用于气源 （满瓶），氢气H2，四氯化硅，

工作原理：纯化媒介是一种高活性的无机化合物，选定设备、镍，电子、三氯氢硅（TCS），三氯化硼，系统设计、

联系人：王小姐（商务）

电话：18021500792

我们提供的腐蚀性气体纯化器可以纯化以下工业气体：氯化氢，特别可针对半导体、

• MTX™ 拥有更高的性能

< 1 ppb H2O in N2 (APIMS常压电离质谱分析)

< 100 ppb H2O in HBr (FTIR傅里叶红外光谱/Laser IR/Lamda Scan，

南京镭普化工有限公司是专业从事工业气体、一氧化氮 NO，整体规划、特种气体、腐蚀性气体纯化应用工程的公司。丙烷 C 3 H 8，一氧化碳，防止装置（阀门阀座）腐蚀。钛，从技术咨询、乙烷 C 2 H 6，维护保养为客户提供高纯介质输送系统全套解决方案。丙烯 C 3 H6，细微颗粒，实验室用户对腐蚀性气体的高纯度需求，此类腐蚀行为会产生大量的挥发与非挥发的金属杂质，有效降低腐蚀性气体对气体供应系统中各个部件的腐蚀程度。氩气 Ar，氦气 He，六氟化硫 SF 6，